首批高階晶片數月內報到

艾司摩爾(ASML)執行長富凱週二在比利時出席 imec 科技論壇時透露，採用最新 High-NA 極紫外光微影設備所生產的首批產品，預計將在幾個月內正式問世。這項重要進展代表著次世代半導體製造技術即將邁入全新的里程碑。

降低先進製程成本成最大亮點

針對新設備的應用範圍，富凱指出，這些早期產品預計將涵蓋記憶體與邏輯晶片等兩大領域。High-NA 設備專為打造最先進的半導體電路而設計，艾司摩爾(ASML)強調，隨著各大晶片製造商持續朝向更微小、更複雜的架構發展，新機台能有效降低圖案化的生產成本，為客戶提供更具經濟效益的解決方案。

造價高昂引發市場採用率擔憂

然而新設備的推廣並非毫無挑戰，台積電(TSM)近期曾表態，每台造價高達4億美元的機台價格過於昂貴。對於艾司摩爾(ASML)而言，首批產品的推出將是驗證次世代微影技術市場需求的重要關鍵，未來投資人也將密切關注各大晶片巨頭是否願意克服成本疑慮，擴大採用這款高階設備。

艾司摩爾(ASML)營運概況與最新股價

艾司摩爾(ASML)成立於1984年，為全球半導體製造微影系統市占率的領導品牌。微影技術主要使用光源將電路圖案從光罩曝光到半導體晶片上，是製造尖端晶片的核心環節，各大廠皆需仰賴其設備來突破5奈米製程節點，主要客戶包含英特爾(INTC)、三星與台積電(TSM)。在最新交易日中，收盤價為1,472.39美元，下跌29.42美元，跌幅1.96%，單日成交量達1,664,400股，較前一交易日變動-7.91%。

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